TMSE保护剂，一种容易被忽视的羧酸保护基团——TBAF脱保护，避免了酸性，碱性，Pd/C等苛刻条件

TMSE（三甲基硅乙基保护剂）。一般情况下，此类保护基的合成可以由卤代物在Pd催化下插羰基反应得到，可以由羧酸和醇进行Mitsunobu反应进行合成，羧酸和醇也可以用缩合试剂DCC缩合，可以做成酰氯和醇去反应。

有些同学就会发出这样的疑问，为啥我要知道这种羧酸保护基团？Wonderful，杠得好~但是作为对化学有点研究的小编，大晚上给你们出个题目：请从化合物1去用简洁高效办法去合成TM。

TM化合物中有个酯基和羧酸，不少同学如果不知道TMSE保护基团，最容易想到的酯基保护基可能是叔丁基（酸性脱保护），甲酯（强碱脱保护）或者苄基（Pd/C,H2脱保护）。因此小编设计了这个化合物，明显有个坑：目标化合物对酸，碱性以及Pd/H2都不友好，下图红色框内列出了很有可能得到的副产物。可能刚开始接到合成任务欣喜若狂，做下来后迷茫到怀疑人生。哈哈，不要着急，跟随小编去了解TMSE保护基吧，以后在工作中加以应用，升职加薪不再遥远~

曾经小编的团队就遇到过这样的问题，刚开始选择了带甲酯的原料往下做，做到最后需要水解了，发现CN水解，内酰胺水解，还遇到过醚键都断掉了。当时小编选择了筛选水解条件，很不完美的交付出去了化合物：交付量没达标，纯度也不是很好，不少交付是通过HPLC制备才搞纯。真是艰辛。

经过文献调研，发现很多知名文献，尤其全合成类文章都选择了TMSE这类保护基去保护羧酸，最后通过TBAF去脱除保护基，避开了酸碱性等对产物有破坏的苛刻条件，收率得以大大提高。

Origanic letter上有篇文章报道了他们在全合成过程中，当初选择了乙酯保护基，最后一步酯基花了4天才拿到40%的收率，要知道全合成一般都是20多步，最后一步水解收率那么低，总收率对于全合成工作者来说，这是晴天霹雳。于是作者选了TMSE保护基，水解只需几个小时就能拿到94%的收率。全合成工作者向我们展示了此类保护基必须得到重视~~

继续翻阅了不少JACS和Angew类文章，面对中间体或者产物官能团对酸碱等体系的敏感性，无不选择了TMSE保护羧酸，最后用TBAF等试剂去温和脱除。小编摘选了一部分如下：